Półmaska filtrująca FS 33V FFP3 R D - EN 149:2001+A1:2009 - 1 szt.

Opis

Pmaska przeznaczona do ochrony drg oddechowych przed szkodliwym dziaaniem zanieczyszczenia powietrza zwaszcza przed wystpujcymi w nim czstkami staymi i/lub ciekymi tworzcymi aerozole (mgy, pyy, dymy).

Pmaska naley do serii bezzaciskowych masek SIMPLA, charakteryzujcych si wysok skutecznoci filtracji, niewielka wag, i unikalnym komfortem pracy podczas ich uytkowania.

Zastosowanie:Do ochrony przed duym steniem pyw respirabilnych, pyami zawierajcymi arsen, beryl, kadm, antymon, kobalt, rad, kadm, nikiel, strychnin czy czstki radioaktywne oraz podczas spawania i lutowania.

Dodatkowe zalety:Nie posiada zacisku nosowego - nowa konstrukcja wyeliminowaa konieczno jego uycia a co za tym idzie zminimalizowany zosta efekt parujcych okularw.

Zawr oddechowy zmniejsza opory oddychania.

Klasa: P3NDS: 30 x NDSNorma: EN 149:2001 + A1:2009Certyfikat: Wydany przez CIOP PIB zgodny z UE 2016/425Skad:Czasza pmaski:Wknina osonowaWknina polipropylenowa typu melt blownIgowana wknina poliestrowaElementy dodatkowe:Uszczelka nosowa z pianki polietylenowej w obrbie czaszy pmaskiZawr wydechowyTama nagowiaCzteropunktowa regulacja tam nagowia